化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分有限溶解，從而得到屏畫面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，可以同時(shí)拋光很多工件，效率高�；瘜W(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制�；瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10.
電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，既靠選擇性的溶解材料表面微笑凸出部分，是表面光滑。與化學(xué)拋光相比，可以消除陰極反應(yīng)的影響，效果較好。
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